Fabricantes chineses de semicondutores recorreram ao governo pedindo a criação de uma análise doméstica da ASML.

Líderes chineses do setor de semicondutores pedem coordenação nacional para o desenvolvimento da litografia EUV (2026–2030)

No artigo publicado na edição especial, os altos dirigentes das maiores empresas chinesas de microfabricação apresentaram um plano unificado. O objetivo é sincronizar esforços no desenvolvimento de sistemas de litografia e, assim, aumentar a independência tecnológica do país.

Por que agora é tão importante
* Restrições de exportação dos EUA (desde 2020) limitam o acesso da China a tecnologias abaixo de 7 nm, tornando a litografia EUV crucial.
* ASML é o único fornecedor mundial de máquinas para litografia EUV. O equipamento consiste em 100.000 componentes de 5.000 fornecedores; a ASML apenas os monta.
* Avanços internos: a China obteve sucessos significativos em áreas específicas (láseres EUV, fabricação de placas de silício, sistemas ópticos), mas integrar essas tecnologias permanece um desafio complexo.

Direções-chave de trabalho
1. Criar uma plataforma única para pesquisa e desenvolvimento de dispositivos e componentes avançados.
2. Desenvolver software de automação de design eletrônico.
3. Fortalecer a ciência dos materiais: produção de placas de silício e gases de alta qualidade necessários para litografia EUV.
4. Estabelecer coordenação nacional dentro do plano quinquenal (15º Plano Quinquenal).

Avaliação da situação atual
* A China detém cerca de 33 % do mercado mundial de microfabricação em processos maduros (28 nm e acima).
* Nesses segmentos, o país tem potencial significativo tanto em design quanto em produção.

Em conclusão, os especialistas exigem que o governo desenvolva urgentemente planos para integrar todos os componentes-chave da litografia EUV. Isso permitirá criar uma própria “ASML” e garantir a independência da China em tecnologias críticas de microfabricação.